logo logo
首 页 >> 单篇全文
拓扑绝缘体Bi2Se3薄膜的Cu和Cr掺杂及石墨烯能带结构调制研究
[2012-09-25]
拓扑绝缘体Bi2Se3薄膜的Cu和Cr掺杂及石墨烯能带结构调制研究
   王以林 中科院研究生院 博士论文
附件下载
附件下载
附件下载
附件下载
附件下载
附件下载