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Deep N-well Induced Latch-up Challenges in Bulk FinFET Technology
[2018-06-27]

Deep N-well Induced Latch-up Challenges in Bulk FinFET Technology

作者: Huang, Chien-Yao; Su, Yu-Ti; Chang, Tzu-Heng; .

会议: 39th Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium (EOS/ESD) 会议地点: Tucson, AZ 会议日期: SEP 10-14, 2017 

会议赞助商: EOS ESD Assoc Inc; IEEE; Electron Devices Soc; Reiliabil Soc; EMC Soc

2017 39TH ELECTRICAL OVERSTRESS/ELECTROSTATIC DISCHARGE SYMPOSIUM (EOS/ESD)  丛书: Electrical Overstress Electrostatic Discharge Symposium   出版年: 2017

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