Nitridation of the surface of LiGaO2 substrates in molecular-beam epitaxy

• 【作 者】Cheng, TS;Foxon, CT;Novikov, SV

• 【刊 名】SEMICONDUCTORS

• 【出版日期】1996
  

• 【卷 号】Vol.30

• 【期 号】No.6

• 【页 码】603-604