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Gate-Tunable Ultrahigh Photoresponsivity of 2D Heterostructures Based on Few Layer MoS2 and Solution-Processed rGO
[2015-10-12]

Gate-Tunable Ultrahigh Photoresponsivity of 2D Heterostructures Based on Few Layer MoS2 and Solution-Processed rGO

Juehan Yang1, Nengjie Huo1, Yan Li1, Xiang-Wei Jiang1, Tao Li2, Renxiong Li1, Fangyuan Lu1, Chao Fan1, Bo Li1, Kasper Nørgaard2, Bo W. Laursen2, Zhongming Wei1,*, Jingbo Li1,* andShu-Shen Li
Advanced Electronic Materials
Article first published online: 19 SEP 2015
DOI: 10.1002/aelm.201500267

 

 


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