索书号：

上卷：TB383/L892/1 

下卷：TB383/L892/2 

《金刚石膜制备与应用.上卷》比较全面、系统、深入地论述了化学气相沉积(CVD)金刚石膜的制备、组织结构和性能表征,金刚石膜化学气相沉积理论,以及在电学(电子学)、热学、光学、声学、电化学、力学等领域的应用,在高超声速、外太空、核和极端摩擦磨损环境下众多高新技术应用研究进展和市场前景.《金刚石膜制备与应用.上卷》分六篇,共29章,第一篇,金刚石膜的制备;第二篇,金刚石膜组织结构和性能表征;第三篇,金刚石膜沉积理论;第四篇,金刚石膜的应用;第五篇,纳米金刚石膜制备与应用;第六篇,金刚石相关材料.

《金刚石膜制备与应用'下卷》比较全面、系统、深入地论述了化学气相沉积（CVD）金刚石膜的制备、组织结构和性能表征,金刚石膜化学气相沉积理论,以及在电学（电子学）、热学、光学、声学、电化学、力学等领域的应用,在高超声速、外太空、核和极端摩擦磨损环境下众多高新技术应用研究进展和市场前景.《金刚石膜制备与应用'下卷》分六篇,共29章,第一篇,金刚石膜的制备;第二篇,金刚石膜组织结构和性能表征;第三篇,金刚石膜沉积理论;第四篇,金刚石膜的应用;第五篇,纳米金刚石膜制备与应用;第六篇,金刚石相关材料