首 页 >> 上架新书
定向碳纳米管: 物理、理念、制作与器件
[2016-05-16]

索书号:TB383/R581

 

目录

Introduction to Carbon 
References 
Carbon Nanotubes 
2.1 History of Carbon Nanotubes 
2.1.1 History Before 1991 
2.1.2 History Since 1991 
2.1.3 History of Aligned Carbon Nanotubes 
2.2 Structures of Carbon Nanotubes 
2.2.1 Graphite 
2.2.2 Single—Walled Carbon Nanotubes 
2.2.3 Double—Walled Carbon Nanotubes 
2.2.4 Multi—Walled Carbon Nanotubes 
2.2.5 Bamboo—Like Carbon Nanotubes 
2.2.6 CNT Y—Junctions 
2.2.7 Carbon Nanobuds 
2.2.8 CNT Nanotorus and Micro—Rings 
2.2.9 Carbon Microtubes 
2.2.10 Amorphous Carbon Nanotubes 
2.2.11 Coiled Carbon Nanotubes 
2.2.12 Flattened Carbon Nanotubes 
2.2.13 Other Carbon Nanomaterials 
2.3 Physical Properties of Carbon Nanotubes 
2.3.1 Anisotropic Mechanical Properties 
2.3.2 Anisotropic Electrical Properties 
2.3.3 Anisotropic Thermal Conductivity 
2.3.4 Anisotropic Thermal Diffusivity 
2.3.5 Anisotropic Seebeck Coefficient 
2.3.6 Other Anisotropic Physical Properties 
References 
Growth Techniques of Carbon Nanotubes 
3.1 Arc Discharge 
3.2 Laser Ablation 
3.3 Chemical Vapor Deposition 
3.4 Hydrothermal Methods. 
3.5 Flame Method 
3.6 Disproportionation of Carbon Monoxide 
3.7 Catalytic Pyrolysis of Hydrocarbons 
3.8 Electrolysis 
3.9 Solar Energy. 
References 
4 Chemical Vapor Deposition of Carbon Nanotubes 
4.1 Thermal Chemical Vapor Deposition 
4.1.1 Hot—Wall Chemical Vapor Deposition 
4.1.2 Hot—Wire Chemical Vapor Deposition 
4.1.3 Thermal Chemical Vapor Deposition Growth Mechanism of Carbon Nanotubes 
4.1.4 Experimental Condition of Carbon Nanotube Array Growth 
4.2 Plasma—Enhanced Chemical Vapor Deposition 
4.2.1 Direct Current Plasma—Enhanced Chemical Vapor Deposition 
4.2.2 Radio—Frequency Plasma—Enhanced Chemical Vapor Deposition 
4.2.3 Microwave Plasma—Assisted Chemical Vapor Deposition 
4.2.4 Plasma—Enhanced Chemical Vapor Deposition Growth Mechanism of Carbon Nanotube Alignment 
4.2.5 Experimental Conditions of Plasma—Enhanced Chemical Vapor Deposition Growth 
References 
5 Physics of Direct Current Plasma—Enhanced Chemical Vapor Deposition 
5.1 Equipment Setup and Growth Procedure 
5.2 Substrate and Underlayer 
5.3 Growth Temperature 
5.4 Plasma Heating and Etching Effects 
5.5 Plasma States 
5.6 Catalyst Crystal Orientation 
5.7 Electric Field Manipulation 
5.8 DC—PECVD Growth Mechanism 
5.8.1 First Stage: Randomly Entangled CNT Growth 
Technologies to Achieve Carbon Nanotube Alignment 
…… 
7 Measurement Techniques of Aligned Carbon Nanotubes 
8 Properties and Applications of Aligned Carbon Nanotube Arrays 
9 Potential Applications of Carbon Nanotube Arrays 
Epilogue 
Index