人们对于可再生能源有了比以往更更大的需求，寻找改进现有技术的方法的目标与制定解决方案一样有价值。当然，人人都愿意从中找到圣杯，但是如果我们谈论向可再生能源社会迈进的时候，从形式到本质，将可再生能源都作为主要动力来源，那么每次提高，每次调整，每次重新规划都会引领我们逐步接近转折点。

尽管以工业革命重工程规模上来说有些研究是有进步的，但其它的则实际上进步很小。荷兰埃因霍恩的一个科学小组的新工作专注于在单一分子尺度改进太阳能电池。与大多数事情一样，采用改进硅片太阳能电池的性能的策略来提高效率，可通过减少其表面的电荷损失来实现。能够成功终止泄漏（或电荷复合）将意味着在生产中可以使用更薄的硅片，从而减少单位耗材。已证实氧化铝涂层可作为硅片太阳能电池的有效钝化层，但是工业应用还受限于缺乏与产出速度一致的涂层涂覆技术。Paul Poodt和他的团队已经有一个解决方案，采用一种修正的原子层沉积技术（ALD）。

该技术源自在CMOS半导体制造中大量使用的化学气相沉积技术，该技术可以在底物上产生共形的单分子层。这种技术很精确，但是速度有点慢，因为其中涉及用每个反应之间的带清洗步骤的2个半反应来起始涂覆过程。但是，埃因霍恩的团队采用ALD技术，通过在空间上分开2个半反应，而不是在时间上分开这2个半反应，改进了尺寸。采用一种传送带技术，可以将底物转移到反应室中，同时反应还在进行，使得其速度达到工业生产的要求。

钝化太阳能电池到目前为止都不错，但是ALD的优势在于其多用途性，该技术对于照明、显示技术、软性电子或可能需要封装或障碍/缓冲层的任何工艺都有好处。Poodt和他的团队认为这只是朝下一代电子制造工具迈进的一小步。

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P. Poodt et al. Adv. Mater. ; DOI: 10.1002/adma.201000766