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清洗设备

 

清洗设备

    去离子水用特制的离子交换树脂去除电活性盐类的离子。这一过程把水从导电性媒质转变为室温下具有18兆欧-厘米电阻率的电阻性媒质。湿法清洗可采用兆声清洗去除小尺度颗粒。工业标准的硅片湿法清洗工艺是RCA工艺:SC1液NH4OH:H2O2:5H2O和SC2液HCl:H2O:6H2O. 

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