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无掩模光刻系统

集成技术中心特色工艺介绍

设备联系人:潘岭峰 电话:010-82305147   Emailpanlf@semi.ac.cn

工艺名称

ATD1000无掩模光刻系统

工艺目的

采用电脑实时生成数字掩膜,并通过空间光调制器产生曝光所需图形在曝光过程中采用自动对焦和对准模块。根据要求可以对要制作图形进行不同精度的分割,以及不同倍率的物镜曝光。这样,我们可以不需要普通掩膜版也可以制作我们所需要的光刻图形。

工艺过程

工艺结果

(图片说明)

2um条形线宽制作

V形图形制作

圆形的制作

工艺特色

(创新点)

1不用制作掩膜可以实现光刻图形的制作

  1. 根据制作要求可以对曝光图形进行不同精度的分割。
  2. 曝光物镜可以在5X20X之间切换。
  3. 可以快速的针对设计的版图进行验证,能够快速开展科研实验。
  4. 节约科研时间,加快科研进度。

 

 



 
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